（１）装置特徴

・マグネトロンカソード３式
・成膜室：φ１００のマグネトロンカソード+RFアンテナ
・基板：φ１２０

（２）片面蒸着

基板上に単層膜を成膜することが可能です。

（３）片面積層蒸着

基板上に、積層膜を成膜することが可能です。