- （１）装置特徴
- ・マグネトロンカソード３式
・成膜室：φ１００のマグネトロンカソード+RFアンテナ
・基板：φ１２０ - （２）片面蒸着
- 基板上に単層膜を成膜することが可能です。
- （３）片面積層蒸着
- 基板上に、積層膜を成膜することが可能です。
多用な蒸着サンプルの
試作ができます
ロングスロースパッタ装置
本装置は、マグネトロンカソード３式を有するロングスロー静止対向型のバッチ式スパッタ装置です。
最大φ120mm基板上に成膜をおこないます。
チャンバーは、ロードロック室、真空移載室、成膜室３式から構成されています。
成膜室には、各々φ100のマグネトロンカソードとRFのアンテナを装備しています。
基板はロードロック室を介してターンテーブルに設置され、各カソードポジションに移動し成膜することで、積層成膜が可能です。
ロングスロースパッタ装置
ターゲット
基板
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サンプル構造例（断面）
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