サンプル試作-04

多用な蒸着サンプルの
試作ができます

スパッタ装置

本装置は、カソード3式を有するスパッタ装置で、実験から小規模な生産が可能です。
最大φ260mm基板上に成膜をおこないます。
高周波電源(1KW 1台)、DC電源(1KW 1台 2.5KW 1台)を有しており、絶縁物、金属の成膜が可能です。

スパッタ装置イメージ

スパッタ装置

制御盤イメージ

制御盤

上の画像をクリックすると動画が再生されます。

サンプル構造例(断面)
  • 片面蒸着
  • 片面蒸着
(1)装置特徴
・マグネトロンカソード3式
・成膜室:φ100のマグネトロンカソード+RFアンテナ
・基板:φ120
(2)片面蒸着
基板上に単層膜を成膜することが可能です。
(3)片面積層蒸着
基板上に、積層膜を成膜することが可能です。

サンプル試作のお申し込みについて

サンプル試作をご希望のお客様は、お問い合せのメールフォームに必須事項とご相談内容をご記入いただき弊社まで送信願いします。
後日、担当者より返信メール、またはお電話を差し上げます。


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