サンプル試作-03

多用な蒸着サンプルの
試作ができます

ロングスロースパッタ装置

本装置は、マグネトロンカソード3式を有するロングスロー静止対向型のバッチ式スパッタ装置です。
最大φ120mm基板上に成膜をおこないます。
チャンバーは、ロードロック室、真空移載室、成膜室3式から構成されています。
成膜室には、各々φ100のマグネトロンカソードとRFのアンテナを装備しています。
基板はロードロック室を介してターンテーブルに設置され、各カソードポジションに移動し成膜することで、積層成膜が可能です。

ロングスロースパッタ装置イメージ

ロングスロースパッタ装置

ターゲットイメージ

ターゲット

基板イメージ

基板

上の画像をクリックすると動画が再生されます。

サンプル構造例(断面)
  • 片面蒸着
  • 片面蒸着
(1)装置特徴
・マグネトロンカソード3式
・成膜室:φ100のマグネトロンカソード+RFアンテナ
・基板:φ120
(2)片面蒸着
基板上に単層膜を成膜することが可能です。
(3)片面積層蒸着
基板上に、積層膜を成膜することが可能です。

サンプル試作のお申し込みについて

サンプル試作をご希望のお客様は、お問い合せのメールフォームに必須事項とご相談内容をご記入いただき弊社まで送信願いします。
後日、担当者より返信メール、またはお電話を差し上げます。


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